产品特点：
Ø 优异的性价比，低价格却可达到相近于高端膜厚计的测量再现性。
Ø 中文化操作介面，入门简易、沟通无障碍。
Ø 提供完整测量教学、技术支援、点检校正等售后服务。
Ø 采用标准样品验证膜厚精度与再现性，确保追溯体制的完整。
Ø 显微镜聚焦下的微距口径测量。
产品规格：
测量规格
膜厚范围
200nm~20μm
波长范围
400nm~780nm
膜厚精度
±1nm以内
重复更现性(2σ)
0.5nm以内
选配品
样品台尺寸
200mm×200mm以内可容制化
测量口径（10倍物镜时）
Φ20μm、Φ40μm、Φ60μm
电脑设备
需支援至少三个USB以上之笔记型或桌上型电脑
作业系统
Windows XP/7（32bit）
测量物镜
5倍、10倍、20倍
软件功能
膜质解析
N：折射率、k：吸光系数
膜厚测量法
FFT法、波峰-波谷法、曲线近似法（Fitting）
应用范围：
半导体晶圆膜、FPD薄膜材料、树脂膜、光阻膜、氧化膜、包装膜、光学镀膜、抗反射膜、透明或半透明膜层
应用范例：
Si基板上99.4nm的SiO2膜Si基板上1018.2nm的SiO2膜
