产品特点：
Ø 椭圆偏振术测量紫外光到可见光波长椭圆参数。
Ø 0.1nm以上奈米级光学薄膜厚度测量。
Ø 400波长以上多通道分光的椭偏仪，高速测量椭圆偏光光谱。
Ø 可自由变换反射测量角度，得到更详细的薄膜解析数据。
Ø 非线性最小平方法解析多层膜、光学常数。
产品规格：
膜厚测量范围
0.1nm~
波长测量范围
250~800nm（可选择350～1000nm）
感光元件
光电二极管阵列512ch（电子制冷）
入射/反射角度范围
45～90o
电源规格
AC1500VA（全自动型)
尺寸
1300（H）×900（D）×1750（W）mm
重量
约350kg（全自动型）
应用范围：
■半导体晶圆・电晶体闸极(Gate)氧化薄膜、氮化膜，电极材料等・SiO 2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al 2 O 2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN・光阻剂光学常数(波长色散)■化合物半导体・AlxGa (1-x) As多层膜、非结晶矽■平面显示器・配向膜・电浆显示器用ITO、MgO等■新材料・类钻碳薄膜(DLC膜)、超传导性薄膜、磁头薄膜■光学薄膜・TiO 2、SiO 2、多层膜、抗反射膜、反射膜■平版印刷领域・g线(436nm)、h线(405nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)等于各波长的n、k值评价
应用范例：
非线性最小平方法比对NIST标准样品(SiO 2)膜厚精度确认
