产品特点：
Ø 非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。
Ø 高精度、高再现性测量紫外到近红外波长反射率光谱，分析多层薄膜厚度、光学常数（n：折射率，k消光系数）。
Ø 宽阔的波长测量范围。（190nm-1100nm）
Ø 薄膜到厚膜的膜厚测量范围。（1nm~250μm）
Ø 对应显微镜下的微距测量口径。
产品规格：
标准型
厚膜专用型
膜厚测量范围
1nm~40μm
0.8μm~250μm
波长测量范围
190~1100nm
750~850nm
感光元件
PDA 512ch（电子制冷）
CCD 512ch（电子制冷）
光源规格
D2（紫外线）、12（可见光）、D2+12（紫外-可见光）
12（可见光）
电源规格
AC 100V±10V 750VA（自动样品台规格）
尺寸
4810（H）×770（D）×714（W）mm（自动样品台规格之主体部分）
重量
约96kg（自动样品台规格之主体部分）
应用范围：
Ø FPD
-LCD、TFT、OLED（有机EL）
Ø 半导体、复合半导体
-矽半导体、半导体镭射、强诱电、介电常数材料
Ø 资料储存
-DVD、磁头薄膜、磁性材料
Ø 光学材料
-滤光片、抗反射膜
Ø 平面显示器
-液晶显示器、膜膜电晶体、OLED
Ø 薄膜
-AR膜
Ø 其他
-建筑用材料
测量范围：
玻璃上的二氧化钛膜厚、膜质分析
