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薄膜测厚仪(Thin Film Measurement Systems)
 
   
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薄膜测厚仪(Thin Film Measurement Systems)

大部分半透明的或具有轻微吸收性的薄膜能够被快速、可靠的测量: 氧化物、氮化物、感光耐蚀膜、聚合物、半导体(Si, aSi,polySi)、半导体化合物(AlGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS)、硬涂层(SiC, DLC), 聚合物涂料 (Paralene, 聚甲基丙烯酸甲酯, 聚酰胺), 薄金属薄膜等。

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MProbe 薄 膜 测 量 系 统

M p r o b e 让 你 成 为 测 量 专 家 !

大部分半透明的或具有轻微吸收性的薄膜能够被快速、可靠的测量:

    氧化物、氮化物、感光耐蚀膜、聚合物、半导体(Si, aSi,polySi)、半导体化合物(AlGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS)、硬涂层(SiC, DLC), 聚合物涂料 (Paralene, 聚甲基丙烯酸甲酯, 聚酰胺), 薄金属薄膜等。

厚度范围: 1 nm-1 mm
波长范围: 200nm -5000nm

在薄膜太阳能电池中的应用:

    aSi, TCO, CIGS, CdS, CdTe-全太阳能堆栈测量

LCD, FPD应用:

   
ITO, 细胞间隙,聚酰胺。

光学涂层:
   
    介质滤波器,硬涂层,防反射涂层半导体和电解质: 氧化物,氮化物, OLED堆。

实时测量和分析。各种多层次的, 高强度的,厚的, 独立和不均匀的层 。

丰富的材料库 (500多种材料) – 新材料容易增添。

支持参数化材料:

    Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA 等⋯

使用灵活: 

    可联网在操作台桌面或现场进行研究与开发。用TCP或Modbus接口能容易的和外部系统连接。

测量参数:

    厚度、光学常数、表面粗糙度。

界面友好强大:

    测量和分析设置简单。背景和缩放修正,连接层和材料。






 

离线数据分析:

    仿真和灵敏度分析,多样品测量,生产批量处理。

 

 

 



MProbe系统示意图

精度 0.01nm or 0.01%
精确度 0.2% or 1 nm
稳定性 0.02nm or 0.03%
光斑尺寸 标准为 3mm , 可以小到 3μm
样本大小 从 1mm 起

 


主要参数

模型 波长 范围光谱仪探测器/检测器/光源 厚度范围 *
VIS 400-1100 nm 分光仪 F4/Si 3600像素点/
钨-卤素光源
15 nm to 20 mm
(option:up to 50 mm)
UVVisSR 200-1100 nm 分光仪 F4/ Si CCD 3600
像素点/氘-钨卤组合式光源
3 nm to 20 mm
(option:up to 50 mm)
HRVIS 700-1000 nm HR分光仪F4/Si 3600 像素点/
钨-卤素光源
1 mm to 400 mm
NIR 900-1700nm 传输光谱仪(TVG)
F2/512 InGaAs/钨-卤素光源
100 nm-200 mm
VISNIR 400-1700 nm 分光仪 F4 Si CCD 3600 像素点
(Vischannel);传输光谱仪(TVG)
F2/512 InGaAs
PDA( NIR channel) 钨-卤素光源
15 nm to 200 mm
UVVISNIR 200 -1700 nm 分光仪F4 Si CCD 3600
像素点(Vis频道);传输
氘-钨卤组合式光源
3 nm -200 mm
NIRScan 900nm -5000nm 扫描分光计/InGaAs/
MCT 探测器 (扫描时间 <60 秒 )
TH-SiN光源
100 nm -800 mm
XT XT 1590nm -1650nm 传输光谱仪 (TVG)
F2/512 InGaAs/钨 -卤素光源
10 mm- 1 mm

* T, n & k 测量的厚度范围为25nm – 5um
其他配置也是可以做到,欢迎原始设备制造商咨询和定制开发项目。
对所有系统中的配件有一年的质量保证。

如果您对本产品有什么问题,请提问咨询!

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