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Filmetrics光学膜厚测量仪_电池片厚度测试
 
 
Filmetrics光学膜厚测量仪_电池片厚度测试
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Filmetrics光学膜厚测量仪_电池片厚度测试

美国Filmetrics光学膜厚测量仪，利用反射干涉的原理进行无损测量，可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率，测量迅速，操作简单，界面友好，是目前市场上最具性价比的膜厚测量仪设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线，波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的，透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。F20、F30、F40、F50

  • 商品编号：F20、F30、F40、F50
  • 货　　号：F20、F30、F40、F50
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建于 1995 年的美国 Filmetrics, Inc. 公司， 以提供简单而价格合理的薄膜测量仪器为宗旨。 在我们进入这个市场之前，商业薄膜测量仪器动辄就要 $50,000 美元或更多，而且操作人员需要预先接受培训。 单次测量就要花几分钟，甚至几小时时间。

Filmetrics 的目标就是设计经济有效的微型光谱仪系统，而硅控线型光电传感器技术的最新发展使这一目标得以实现。 我们把先进的技术、软件、和丰富的薄膜经验结合在一起，创造出了简单而直观的 Windows 界面。 其成果就是 F20，这是一种很简洁的系统，具有令人惊异的速度和准确性，生产操作人员只需要几分钟培训即可使用仪器 – 而所有这一切只有传统仪器几分之一的价格。

我们的成就已经获得了业内新闻界的广泛承认，我们的产品被评为年度“100 种最具技术意义”的产品之一和年度“25 项最佳新产品”之一。

研究开发杂志
• 1977 年，Filmetrics F30 产品当选 “研发 100 大奖”。
• 2002年，Filmetrics 的厚度成像技术当选 “研发 100 大奖”。

光子光谱杂志
• 1998年，Filmetrics F20 被评为 “25 项最佳新产品”。

世界一流 经济有效薄膜厚度测量系统

测量薄膜厚度仅需几秒钟

Filmetrics 产品轻点鼠标就能测量1纳米到1毫米的薄膜厚度。几乎所有的材料都可以被测量。直观的设计意味着您能在几分钟内完成第一个薄膜厚度测量！

  • 只需要运行基于Windows的软件，连接Filmetrics设备，然后，开始测量。
  • 方便地存储或输出详细测量资料。
  • 快速地将我们的厚度测量系统与其它系统通过.NET软件整合。
测量反射率和透射率
  • F20 薄膜厚度的测量系统
  • 测量反射率和透射率
  • 测量光斑小至2.5微米(µm)宽
  • 每秒两个点薄膜测绘
  • 自动晶圆处理系统
卓越的技术

我们通过分析光如何从薄膜反射来测量薄膜厚度。通过分析肉眼看不见的光谱我们能测量几乎所有超过100原子厚度的非金属薄膜。因为不涉及任何移动设备，几秒钟之内就能测出：薄膜厚度，折射率，甚至粗燥度

美国Filmetrics光学膜厚测量仪，利用反射干涉的原理进行无损测量，可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率，测量迅速，操作简单，界面友好，是目前市场上最具性价比的膜厚测量仪设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线，波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的，透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。

Filmetrics光学膜厚测量仪的详细介绍

其可测量薄膜厚度在1nm到1mm之间，测量精度高达1埃，测量稳定性高达0.7埃，测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）, 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。

通过Filmetrics膜厚测量仪最新反射式光谱测量技术,最多4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛，例如 :
半导体工业 : 光阻、氧化物、氮化物。
LCD工业 : 间距 (cell gaps)，ito电极、polyimide 保护膜。
光电镀膜应用 : 硬化镀膜、抗反射镀膜、过滤片。

极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点，Filmetrics提供四种不同型号以供选择:

F20 : 这简单入门型号有三种不同波长选择(由220nm紫外线区 至1700nm近红外线区)为任意携带型。薄膜厚度范围是 30a到100nm，精度为1a゜。

F30:这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、n、k值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。更可加装至三个探头，同时测量三个样品，具紫外线区或标准波长可供选择。

F40:這型號安裝在任何顯微鏡外，可提供最小5um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。

F50:這型號配備全自動xy工作台，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能，可取得整片样品厚度分布情况(mapping)。
 
负担得起高级膜厚测量仪系统F20

使用F20高级分光计系统可以简便快速的测量厚度和光学参数（n和k）。您可以在几秒钟内通过薄膜上下面的反射比的频谱分析得到厚度、折射率和消光系数。任何具备基本电脑技术的人都能在几分钟内将整个桌面系统组装起来。
 
F20包括所有测量需要的部件：分光计、光源、光纤导线、镜头集合和Windows下运行的软件。您需要的只是接上您的电脑。
 
膜层实例
几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。包括：
sio2（二氧化硅）           sinx（氮化硅）                            dlc（类金刚石碳）
photoresist（光刻胶）     polyer layers（高分子聚合物层）      polymide（聚酰亚胺）
polysilicon（多晶硅）      amorphous silicon（非晶硅）
 
基底实例：
对于厚度测量，大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量，需要一块平整的镜面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要进行处理使之不能反射。
包括：
silicon（硅）            glass（玻璃）               aluminum（铝）
gaas（砷化镓）        steel（钢）                 polycarbonate（聚碳酸脂）
polymer films（高分子聚合物膜）
 
应用
半导体制造
液晶显示器
光学镀膜
photoresist光刻胶
oxides氧化物
nitrides氮化物
cell gaps液晶间隙
polyimide聚酰亚胺
ito纳米铟锡金属氧化物
hardness coatings硬镀膜
anti-reflection coatings增透镀膜
filters滤光

f20 使用高级仿真活动来分析光谱反射率数据。
 
标准配置和规格
 
F20-UV
F20
F20-NIR
F20-EXR
只测试厚度
3nm ~ 70μm
15nm ~ 70μm
100nm ~ 250μm
15nm ~ 250μm
测试厚度和n&k值
50nm ~ 5μm
100nm ~ 5μm
300nm ~ 10μm
100nm ~ 10μm
波长范围
200-1100nm
380-1100nm
950-1700nm
380-1700nm
准确度
大于 0.4％ 或 2nm
精度
1A
2A
1A
稳定性
0.7A
1.2A
0.7A
光斑大小
20μm至1.5mm可调
样品大小
1mm至300mm 及更大
探测器类型
1250-元素硅阵列
512-元素 砷化铟镓
1000-元素 硅 & 512-砷化铟镓阵列
光源
钨卤素灯，氚灯
电脑要求
60mb 硬盘空间
50mb 空闲内存
usb接口
电源要求
100-240 vac, 50-60 hz, 0.3-0.1 a
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