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椭圆偏光膜厚测量仪(自动)
 
   
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椭圆偏光膜厚测量仪(自动)

椭圆偏振术测量紫外光到可见光波长椭圆参数。 0.1nm以上奈米级光学薄膜厚度测量。 400波长以上多通道分光的椭偏仪,高速测量椭圆偏光光谱。 可自由变换反射测量角度,得到更详细的薄膜解析数据。 非线性最小平方法解析多层膜、光学常数。

  • 商品编号:G547836A0E887C
  • 货  号:G547836A0E887C
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产品特点:                                                           

Ø 椭圆偏振术测量紫外光到可见光波长椭圆参数。

Ø 0.1nm以上奈米级光学薄膜厚度测量。

Ø 400波长以上多通道分光的椭偏仪,高速测量椭圆偏光光谱。

Ø 可自由变换反射测量角度,得到更详细的薄膜解析数据。

Ø 非线性最小平方法解析多层膜、光学常数。


产品规格:                                                            

膜厚测量范围

0.1nm~

波长测量范围

250~800nm(可选择3501000nm

感光元件

光电二极管阵列512ch(电子制冷)

入射/反射角度范围

45~90o

电源规格

AC1500VA(全自动型)

尺寸

1300H×900D×1750Wmm

重量

约350kg(全自动型)

 应用范围:                                                            

■半导体晶圆
・电晶体闸极(Gate)氧化薄膜、氮化膜,电极材料等
・SiO 2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al 2 O 2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN
・光阻剂光学常数(波长色散)
■化合物半导体
・AlxGa (1-x) As多层膜、非结晶矽
■平面显示器
・配向膜
・电浆显示器用ITO、MgO等
■新材料
・类钻碳薄膜(DLC膜)、超传导性薄膜、磁头薄膜
■光学薄膜
・TiO 2、SiO 2、多层膜、抗反射膜、反射膜
■平版印刷领域
・g线(436nm)、h线(405nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)等于各波长的n、k值评价

 

 应用范例:                                                            

非线性最小平方法比对NIST标准样品(SiO 2)膜厚精度确认

 

 

 

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