产品特点:
Ø 非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。
Ø 高精度、高再现性测量紫外到近红外波长反射率光谱,分析多层薄膜厚度、光学常数(n:折射率,k消光系数)。
Ø 宽阔的波长测量范围。(190nm-1100nm)
Ø 薄膜到厚膜的膜厚测量范围。(1nm~250μm)
Ø 对应显微镜下的微距测量口径。
产品规格:
|
标准型 |
厚膜专用型 | |
膜厚测量范围 |
1nm~40μm |
0.8μm~250μm | |
波长测量范围 |
190~1100nm |
750~850nm | |
感光元件 |
PDA 512ch(电子制冷) |
CCD 512ch(电子制冷) |
PDA 512ch(电子制冷) |
光源规格 |
D2(紫外线)、12(可见光)、D2+12(紫外-可见光) |
12(可见光) | |
电源规格 |
AC 100V±10V 750VA(自动样品台规格) | ||
尺寸 |
4810(H)×770(D)×714(W)mm(自动样品台规格之主体部分) | ||
重量 |
约96kg(自动样品台规格之主体部分) |
应用范围:
Ø FPD
-LCD、TFT、OLED(有机EL)
Ø 半导体、复合半导体
-矽半导体、半导体镭射、强诱电、介电常数材料
Ø 资料储存
-DVD、磁头薄膜、磁性材料
Ø 光学材料
-滤光片、抗反射膜
Ø 平面显示器
-液晶显示器、膜膜电晶体、OLED
Ø 薄膜
-AR膜
Ø 其他
-建筑用材料
测量范围:
玻璃上的二氧化钛膜厚、膜质分析