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  • 商品编号：G53D5F14B3E186
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MVSystems, Inc. 由曼登博士（Dr. Arun Madan）创建于1989年。
曼登博士曾在英国丹迪大学从师于斯皮尔（Walter Spear)教授，是1970年代最早从事非晶硅材料和器件研究的人员之一。
曼登博士在非晶硅薄膜晶体管（TFT)方面进行了开创性的研究，这是他的博士论文的主要内容之一。非晶硅薄膜晶体管现已成为平板显示器中必不可缺的重要器件。
公司在薄膜半导体技术和先进的高真空半导体薄膜沉积设备方面拥有14项专利，包括：
多腔室PECVD沉积系统 – 主要产品  用于柔性衬底的Reel-to-reel多室系统 - 主要产品
碳热丝化学气相沉积设备  掺氟纳米硅（微晶硅）材料
P型宽带隙非晶硅材料  掺氟二氧化锡绒面透明导电膜（与日本Asahi公司合作）
公司生产制造的80多台设备已销往全世界23个国家和地区。
公司生产的主要薄膜材料和器件产品包括：
材料
器件
非晶硅（a-Si:H)
薄膜硅太阳电池
纳米(微晶)硅 (nc-Si)
薄膜晶体管
氮化硅(SiNx)，氧化硅(SiOx)，氮氧化硅(SiON)
成像器件
氧化锌(AZO)，铟锡氧化物(ITO), 二氧化锡(SnO2)
X光探测器
MVSystems公司设计，制造和提供各类单腔室和多腔室薄膜沉积设备。另外，根据用户的需求，各种
PECVD，HWCVD，和PVD腔室可以单个制造，也可配备到现有的团簇型（星型）或是直线型沉积系。我们公司的工程设计部门尽可能为用户着想，以使用户们获取他们最需要的且价格合适的设备。
R&D Cluster tools
•Cluster tool w/ 8 port locations
具有8个腔室的团簇型沉积系统
•15.6x15.6cm substrates
衬底尺寸为15.6x15.6cm
•Computer controlled
可完全由电脑程序控制操作运行
•PECVD, HWCVD and Sputter capability
制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，及溅射
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