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MProbe Vis
微点薄膜厚度光学测量仪
MProbe让你成为测量专家 ！
大部分半透明的或具有轻微吸收性的薄膜能够被快速、可靠的测量：氧化物、氮化物、感光耐蚀膜、聚合物、半导体(Si, aSi,polySi)、硬涂层(SiC, DLC), 聚合物涂料 (Paralene,PMMA,聚酰胺)，薄金属薄膜等。
MProbe系统
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精度 |
0.01nm或0.01% |
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精确度 |
0.2% 或1nm |
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稳定性 |
0.02nm或0.03% |
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光斑尺寸 |
标准为3mm, 低至3μm |
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样本大小 |
从1 mm |
厚度范围: 15 nm-50 um
波长范围: 400nm -1100 nm
LCD, FPD应用: ITO, 细胞间隙，聚酰胺。光学涂层: 介质滤波器，硬涂层，防反射涂层半导体和电解质: 氧化物，氮化物, OLED堆
实时测量和分析。各种多层次的, 薄的，厚的，独立和不均匀层。
丰富的材料库 (500多种材料) – 新材料容易增添。Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA 等
使用灵活: 可联网在操作台桌面或现场进行研究与开发。
用TCP或Modbus接口能容易的和外部系统连接。
测量参数：厚度、光学常数、表面粗糙度。
界面友好强大: 测量和分析设置简单。
实用的工具：仿真和灵敏度分析，背景和缩放修正,连接层和材料，多样品测量，动态测量和生产批量处理。
测量300 nm 硅氧化膜 测量与模型数据拟合
主要参数
从硅晶片原反射比。信号最大（16位）。
积分时间：10ms
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光谱范围 (nm) |
400-1100 |
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分光仪/检测器 |
分光仪F4,Si CCD 3600像素,16位ADC, |
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光谱分辨率 |
<2 nm (标准) |
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光源 |
卤钨灯（Xe填充）5Ｗ, CT 2800o |
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反射比探测 |
光导纤维（７纤维束）, |
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精度 |
<0.01 nm或0.01% |
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准确度 |
<1nm或0.2% |
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重量 |
4 kg |
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尺寸 |
8”x 10” x 4” (WxDxH) |
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功率 |
100-250VAC, 50/60 Hz |
测量500nm AlN. 测量参数：厚度和表面粗糙度。 换算系数应用到正确的距离以改变配置。
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选配硬件 | |
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-FLVis |
Vis消色差聚焦透镜. WD:35mm. 光板尺寸: <0.5mm. |
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-LP500 |
长通滤片, 波长范围在500nm以下. |
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-FDHolder |
样品架朝下.测量透明和柔韧的样本 |
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-TO |
选配透射率 |
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-TO Switch |
2通道开关，结合测量反射率和透光率. |
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- 2oW |
更改为20W (CT 3100o, 使用时间2000hrs) 钨卤素灯. |
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-HR |
升级光谱仪分辨率<1nm |
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- TR |
在输入/输出触发5V TTL。1外部(输入) |
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软件选项 | |
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-MOD |
基于Modbus标准远程控制(TCP) |
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- CM |
不同测量与指定数量的测量和/或延迟 |
