OELABS

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光伏薄膜(半导体)测试：激光椭偏仪(1) 光致发光成像(PL)(1) 碳氧含量分析仪(1) 3D显微镜|三维轮廓仪(1) D8反射率测量仪(1)
其他仪器：霍尔效应测试仪(1)
薄膜(半导体)材料制备：薄膜沉积设备PECVD(1) 薄膜(半导体)材料制备(1)

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光学膜厚仪

美国光学膜厚仪，广泛应用于各种薄膜、涂层光学常数(n and k)和厚度的精确测量，设备分为在线和离线两种工作模式，操作便捷，几秒钟内即可完成测量和数据分析，USB 连接计算机控制；薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉，干涉的发生与膜厚及折光系数等有关，因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术，我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。

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